稀有金屬材料設備
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稀有金屬材料設備
產品名稱：真空蒸餾/升華爐
用途：主要用于稀有金屬材料單質（砷、硒、鎘等）的提純、除雜等工藝。 瀏覽次數：2741 |
詳細介紹
◆主要技術指標◆
主機結構：由真空機組、真空腔體及機械骨架等組成；
使用溫度：~1250℃；
升溫速度：~30℃/min；
真空機組：擴散泵/分子泵機組；
壓力范圍你：1.0×10-4Pa~0.15MPa；
真空室規格：Φ159mm~Φ480mm；
真空室內可通惰性氣體保護；
設備參數可根據客戶要求定制。
更詳細的參數歡迎來電垂詢。
上一個產品：水平還原/提純爐
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