稀有金屬材料設備
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稀有金屬材料設備
產品名稱:真空蒸餾/升華爐
用途:主要用于稀有金屬材料單質(砷、硒、鎘等)的提純、除雜等工藝。 瀏覽次數:2741 |
詳細介紹
◆主要技術指標◆
主機結構:由真空機組、真空腔體及機械骨架等組成;
使用溫度:~1250℃;
升溫速度:~30℃/min;
真空機組:擴散泵/分子泵機組;
壓力范圍你:1.0×10-4Pa~0.15MPa;
真空室規格:Φ159mm~Φ480mm;
真空室內可通惰性氣體保護;
設備參數可根據客戶要求定制。
更詳細的參數歡迎來電垂詢。
上一個產品:水平還原/提純爐
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